怎么刻光敏印章

刻光敏印章的步骤如下：

准备工作

选用适当的光敏刻章片和光阻剂。

将刻章片放入清洁的显影盘中，倒入足够的显影液和除影剂。

将显影液和除影液充分混合，使刻章片表面充分浸泡。

曝光

将需要制作的图案或标记的底片放置在刻章片的表面上。

在紫外线灯下进行曝光，曝光时间根据使用的光敏刻章片和光阻剂而定，通常为几秒到几分钟。

阻蚀

将曝光后的刻章片放入显影液中，已曝光区域的光阻剂会变得不溶于显影液，而未曝光区域的光阻剂会被显影液溶解掉。

清洗

将已显影的刻章片放入洗涤盘中，用足够的水洗净残留的显影液和除影剂。

然后用氮气吹干或放在紫外线下晾干。

刻蚀

在已清洗干燥的刻章片表面上涂上刻蚀剂，刻蚀剂会将未被光阻剂保护的区域蚀刻掉，形成凹凸不平的图案。

清洗

将已刻蚀的刻章片放入洗涤盘中，油墨或颜料会停留在凹陷的区域中，而高处则被清洗干净，形成清晰的图案。

储存

将制作好的刻章片保持在干燥的环境中，以免受潮或变形。

注意事项：

曝光过程中，确保图案正确放置，并且曝光膜和打印样稿的顺序及朝向正确。

显影和刻蚀过程中要注意安全，避免显影液和刻蚀剂接触皮肤或眼睛。

曝光后要及时清洗刻章片，确保没有残留的显影液或刻蚀剂。

储存刻章片时要确保干燥，避免潮湿环境导致的变形或损坏。

通过以上步骤，你可以制作出清晰耐用的光敏印章。